Logo
0 ks
za 0,00 Kč
Nákupní košík je prázdný
Potřebujete poradit? Neváhejte nás kontaktovat.
Novinky
12.03.2018
Registrace pro nové distributory
Nemáte svého sponzora? Nabízím Vám registraci do mého týmu. Jsem konzultant č.709654579. Po registraci Vám přijde SMS s kódem, který zadáte  do p... číst celé
Zobrazit všechny novinky

  1. Úvod
  2. Péče o pleť
  3. Pleťové masky
  4. Faberlic BeautyLab Kyslíková expresní maska na obličej Matování a vyčištění

Faberlic BeautyLab Kyslíková expresní maska na obličej Matování a vyčištění

Hmotnost: 17 g Kyslíková expresní maska na obličej Matování a vyčištění z látky aktivně absorbuje přebytky kožního mazu, pohlcuje toxiny, zanechává po... celý popis
Dostupnost
skladem
Běžná cena
145 Kč
Nejsme plátci DPH
69 Kč
ks
Číslo produktu:1043
EAN kód:4690302361914
Výrobce:Faberlic
Kompletní specifikace

Hmotnost: 17 g

Kyslíková expresní maska na obličej Matování a vyčištění z látky aktivně absorbuje přebytky kožního mazu, pohlcuje toxiny, zanechává pokožku matnou a svěží. Obsahuje dřevěné uhlí a koncentrované sérum.

  • Ideálně se hodí k péči o pokožku se sklonem k mastnotě.
  • Odstraňuje mastný lesk.
  • Zajišťuje hladkost a svěžest.
  • Inovační složení Bubble O2 sytí pokožku kyslíkem.

Složení: Aqua, Glycerin, Dipropylene Glycol, Cocamidopropyl Betaine, Methyl Perfluorobutyl Ether, Methyl Perfluoroisobutyl Ether, Sodium Lauroyl Glutamate, Disiloxane, Sodium Cocoyl Apple Amino Acids, Hydroxyethylcellulose, Allantoin, Hydrolyzed Collagen, Sodium Hyaluronate, Carica Papaya (Papaya) Fruit Extract, Vaccinium Myrtillus Fruit/Leaf Extract, Saccharum Officinarum (Sugar Cane) Extract, Acer Saccharum (Sugar Maple) Extract, Citrus Aurantium Dulcis (Orange) Fruit Extract, Citrus Limon (Lemon) Fruit Extract, Illicium Verum (Anise) Fruit Extract, Phenoxyethanol, 1,2-Hexanediol, Chlorphenesin, Hydroxyacetophenone, Caprylyl Glycol, Niacinamide, Parfum, Propanediol, Disodium Edta, Charcoal Powder.

Použití: Naneste látkovou masku na obličej a ponechte 15 minut. Proceduru opakujte 1–2 krát týdně.